Ionisation fractions of sputtered titanium species at target and substrate region in HiPIMS

K. Bernátová, M. Fekete, P. Klein, J. Hnilica, P. Vašina

V tomto článku byly určeny koncentrace atomů a iontů titanu v základním stavu, a také ionizační stupeň. Ke stanovení koncentrací rozprášených částic byla použita metoda efektivních větvících poměrů. Nejvyššího, 90 % ionizačního stupně bylo dosaženo v oblasti u magnetronového terče pro střídu 1,2 %. V oblasti u substrátu pro střídu nižší než 2 % dosáhl ionizační stupeň rozprášených částic vždy alespoň 50 %.

Plasma Sources Science and Technology 29 (2020) 055010

Predicting the composition of W-B-C coatings sputtered from industrial cylindrical segmented target

M. Kroker, P. Souček, M. Šlapanská, V. Sochora, M. Jílek, P. Vašina

Tato práce představuje postup, jak předpovědět chemické složení a rychlosti depozice tenkých vrstev. Simulované chemické složení a relativní rychlost depozice byly ověřeny a validovány experimenty. Chemické složení povlaků bylo korelováno s umístěním jednotlivých segmentů terče a byl diskutován vliv pohybu substrátu na chemické složení povlaků. Simulace odhalily odlišné trajektorie těžkých a lehkých částic.

Surface and Coatings Technology 438 (2022) 128411

Spatially resolved study of spokes in reactive HiPIMS discharge

M. Šlapanská, M. Kroker, P. Klein, J. Hnilica, P. Vašina

Tento příspěvek přináší pohled na ionizační zóny tzv. „spokes“ v argon dusíkové atmosféře s použitím titanového terče. Cílem bylo popsat nejen globální parametry ionizačních zón, jako je jejich tvar, délka a rychlost šíření, ale také poskytnout popis parametrů vyvíjejících se v průběhu ionizační zóny, jako je plovoucí potenciál a emise plazmatu ve viditelné oblasti spektra. Měření posledně jmenovaného jasně ukázalo, které částic emitují nejvýrazněji a jak se jejich emise mění při přechodu od argonového výboje k výboji hořícím v čistém dusíku.

Plasma Sources Science and Technology 31 (2022) 055010

Microstructure of titanium coatings controlled by pulse sequence in multipulse HiPIMS

P. Souček, J. Hnilica, P. Klein, M. Fekete, P. Vašina

V tomto článku byl k depozici kovových titanových tenkých vrstev použit standardní jednopulsní HiPIMS (s-HiPIMS), multipulsní HiPIMS (m-HiPIMS) a stejnosměrné magnetronové naprašování. Různý počet pulzů v jedné sekvenci pulzů při m-HiPIMS umožňoval ovlivnit toky iontů na substrátu a ionizaci rozprašovaného titanu. Použitím m-HiPIMS bylo možné dosáhnout povlaků s hladší povrchovou morfologií a nižší drsností. Počet pulzů také významně ovlivňoval texturu a rychlost depozice.

Surface and Coatings Technology 423 (2021) 127624

Seznam všech publikací

2024

2023

2022

2021

2020

2019

2018

2017

2016

2015

2014

2013

2012

2011

2008